给我些水仙花的资料和养水仙的方法吧…

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据中国花卉介绍：水仙花栽培方法有土栽、沙栽、水栽及雕刻造型。栽培技术要求不高，只要保持温度在15℃左右，有充足的阳光和勤浇水、常换水，养殖25天－30天就能开花。但要注意几点：

1．温度不能超过25℃以上，否则就停止生长进入休眠，造成花苞黄瘪，痿干；

2．阳光要充足，否则叶片会长成大蒜叶；

3．用的水要清洁，否则因水变质造成污染烂根。

水仙花生长有特殊的特性，它开花日期可以由人自己决定，如果要求它在春节期间开花，可在春节前20天－300天左右将鳞茎（水仙头）入盆栽植，入盆后它便开始生长至开花，现介绍几种养殖的方法：

土栽

土栽的土壤要求用疏松的腐殖土。栽植前将水仙头外表干枯的鳞茎片剥掉并刮去老根，加腐殖土至盆沿3厘米处。双手抱盆摇动，使腐殖土紧实，然后将水仙鳞茎盘座落在盆中，再继续加土约1厘米左右，接着浇透水，然后将花盆放在阴凉处，5天后待鳞茎盘长出根后，将花盆放到有阳光处养殖。土栽浇水要注意见干见湿，即土不干不浇水，一旦浇水就要浇到盆底漏水为止，浇水时间要选在早晚，否则会破坏根的生长。

沙栽

沙栽最好用洗干净的细沙，盆也要求透气好的瓦盆，栽植前先将沙装入盆中，装至盆沿3厘米处，然后将剥去老茎片和老根的水仙头坐落，在装好细沙的花盆中，再加1厘米左右的沙，使水仙头下茎埋入沙中1厘米左右。然后浇透水放在阴凉处。5天后将它放到有阳光处直到开花为止。用沙栽植水仙头要天天浇透水，不及时浇水会造成缺水，影响花的根生长。浇水也要求安排在早晚进行。

水栽

水栽前也要将老茎片和老根剥离干净，然后放入养殖的水仙花盆中，加水至水仙头下球茎1厘米处左右，放到阴凉处，待鳞茎盘长出根后放到有阳光处到开花。水栽水仙花最好天天换水，一方面防止水变质污染引起烂根，另一方面天天换水，水干净长出的根也洁白漂亮。

水仙雕刻造型

为了使花叶长势多姿、优美，需将花头进行雕刻处理。具体做法是：先将鳞茎外表干枯的鳞片剥掉并刮去老根，然后雕刻。雕刻时先看芽体长势，将弯势作为雕刻面，然后用小尖刀在离根盘2厘米处的鳞茎从左至右轻轻横切一条线，再在左右两侧各切一条竖线，然后逐层剥去横竖线范围内的鳞片，同时要挖去各芽体之间的鳞片，直至叶片和淡黄色花葶裸露，这时就可卷曲叶片。接着对花葶进行造型处理，用小刀在花葶上方，花苞下方处从上到下刮一条线或用针对花葶从上到下刺几针，花葶生长也就发生变态，同样也往伤口一侧弯曲。根据不同造型的要求刮削的程度和位轩也不同。经雕刻造型的水仙头要及时放入水中浸泡，伤口面朝下，以清除伤口分泌出的粘液，每天换水，浸泡大约2天－3天，待粘液清除干净，便可取出并用脱脂棉花盖住鳞盘（根盘）。然后将雕琢面朝上，放入水仙盆中加水放在阴凉处养殖。每天换水一次，保持水质干净，待鳞盘长出长为1厘米左右的时候，将水仙盆放在有阳光处养殖。记住养殖过程中温度不要超过20℃，要勤换水，每天换1次，勤喷水，每天喷1次－2次，常日照，这样培养出的花茂盛，花香，姿态优美。

这个回答希望你能满意并采纳 谢谢

光刻机中国能造吗？

暂时不能

光刻机不是一项单一的技术，而是现代各项高科技技术的集成，成品背后需要无数的产业链支持，以中国现在的科技水平暂时还不能造出。

当中国专家去荷兰阿斯麦尔公司参观光刻机的时候，阿斯麦尔的高管直接对中国的专家说：就算给你全套图纸，你们中国也造不出光刻机。 很多中国人听到这句话都非常的气愤，凭什么中国就造不出光刻机？

近年来关于国产光刻机弯道超车的新闻频繁在各类媒体中出现，国人想要在光刻机技术上超越欧美发达国家的爱国情怀可以理解，但部分媒体为了博取眼球对国产光刻机过分的吹捧，不尊重事实的报道对普通大众而言其实是一件特别不负责任的事情。

理想很丰满，现实很骨感，以中国现在的科技水平确实造不出光刻机，光刻机不是一项单一的技术，而是现代各项高科技技术的集成，光刻机的内部十分复杂，可以说是人类知识集大成的产物之一，光刻机就像手机和汽车一样，是由无数的零配件组装合成的，最终实现某种功能，成品背后需要无数的产业链支持，各式各样的零配件都是行业内顶级的技术体现，没有长时间的深耕运作，国产光刻机在单一的某项技术上实现领先是没问题的，但是想要在整体上实现弯道超车，基本上不现实。

举个例子：比如马拉松长跑比赛，第二名与第一名的差距相差3公里，在某一个时间段，第二名选手的速度超过了第一名选手，这仅仅代表着第二名选手最终有超越第一名选手的可能，但是3公里路程的巨大差距却不是一时半会可以赶上的，想要超越，时间跨度将非常大，因为你在努力向前跑的同时对手也在努力向前跑。

荷兰阿斯麦尔之所以能够垄断全球最顶尖的光刻机市场，不是因为荷兰人聪明，单纯靠荷兰人也研发不出光刻机，光刻机的研发集合了全球优势资源加上半导体几十年的技术积累，最终在数以万计的专业的顶尖研发人员不断技术突破下才成功，荷兰的幸运在于目前只有荷兰掌握光刻机最核心的技术“侵入式光刻技术”，所以现在顶级光刻机只有荷兰有能力生产。

技术是研发的外在体现，任何技术的突破都是厚积薄发的结果，光刻机需要的技术方向特别多，比如机械化层面，自动化层面，系统科学层面等一大堆方向都需要有人去攻关，有些地方是知道技术壁垒的，但是如何突破技术壁垒还没有头绪，有些地方连技术壁垒在什么地方都没找到，更别谈技术突破了，而且任何一项技术的突破都需要长年累月技术投入，资金投入，人员投入。

技术积累并不是钱能够解决的，目前国内在光刻机领域做得比较好的是上海微电子装备和中科院的某个研究所，它们目前还停留在90nm研发产品阶段，而荷兰阿斯麦尔7nm的光刻机已经实现量产，当然这并不代表国产光刻机没有超越的机会，目前国内对光刻机的重视程度越来越高，大量的资金和顶尖的人才都在光刻机领域深耕研究。

国产光刻机其实只要在某些关键技术上取得突破，就算得上是弯道超车了，就好比荷兰阿斯麦尔在光刻机“侵入式光刻技术”上领先全球一样，没有这项关键性技术，就无法制造更顶级的光刻机，所以目前只有荷兰才有资格制造顶级光刻机。